Popis produktů
Za vzdálených podmínek může být silikonový prášek v procesu SHS zcela nitrided, aby se generovalkřemíkový nitrid, a produkt má vysoký obsah dusíku a nízký obsah kyslíku, ale je fáze. V reakci na křemík SHS musí být přidáno vhodné množství si _3 _4; Rychlost šíření spalovací vlny SHS se zvyšuje se zvyšováním tlaku dusíku a snížením hustoty plnění reakce, ale je nezávislá na složení reaktantu a průměru vzorku. Teplota spalovací vlny se zvýšila se zvýšením tlaku dusíku a zvýšením průměru vzorku, který byl nezávislý na složení reaktantů a hustoty plnění.
Parametry produktů
| Stupeň | N | Si | Ca min | O Min | Al Min | C | Fe min |
| Si3n 485-99 | 32-39 | 55-60 | 0.25 | 1.5 | 0.25 | 0.3 | 0.25 |
Obrázek spolupráce produktů
1.Křemíkový nitridFilmy byly připraveny pomocí plazmatické chemické depozice párů (PECVD) za různých podmínek depozice (teplotní rozsah substrátu 20 ~ 180 stupňů a RF výkonu 10 ~ 30 W) a byly studovány účinky depozičních podmínek na vlastnosti a vodotěsné vlastnosti nitridových filmů křemíku. Experimentální výsledky ukazují, že se zvýšením teploty substrátu se hustota, index lomu a poměru SI/N u nitridových filmů křemíku odpovídajícím způsobem zvyšují, zatímco rychlost depozice a obsah H odpovídajícím způsobem snižují. Se zvýšením výkonného výkonu se rychlost depozice, hustoty, indexu lomu a poměru SI/N u nitridových filmů křemíku odpovídajícím způsobem zvyšuje, zatímco obsah H se odpovídajícím způsobem snižuje. Experiment pro permeaci vodní páry ukazuje, že i když je teplota substrátu snížena na 50 stupňů, uložený film o křemíku nitridu má stále dobrý vodotěsný výkon. Experimentální výsledky ukazují, že filmy nitridu křemíku s nízkou teplotou lze účinně aplikovat na balení zařízení emitující organické světlo (OLED).
Populární Tagy: Nitrid křemíku na vysoké úrovni, čínský materiál na vysoké úrovni výrobci nitridů křemíku, dodavatelé, továrna